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新型真空镀膜工艺与设备实践室

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新型真空镀膜工艺与设备实践室

  

新型真空镀膜工艺与设备实践室

  长期聚焦于以等离子体物理为基础的物理气相沉积技术(高功率脉冲磁控溅射HiPIMS、常规溅射技术、阴极弧、离子注入、微弧氧化等)、装备(真空和电源)、模拟计算、工艺与应用的研究,其中工艺部分涉及硬质涂层、装饰涂层、生物涂层、薄膜太阳能电池、薄膜固态锂电池等一系列先进领域。课题组以科研为主线,成果产业化为目标,为国家重大工程装备制造、精密零部件制造、新材料开发等领域提供重大的技术支撑。

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